DUV光刻机可以生产65纳米到7纳米不等的芯片。中国目前正在推进EUV光刻机的研发和生产,预计未来将能够生产更小的10纳米以下的芯片。截至2021年,中国已经开发出一台EUV光刻机,并在产线上进行试验和生产。然而,目前中国仍然依赖进口EUV光刻机,尚未实现大规模商业化生产。
DUV光刻机可以生产65纳米到7纳米不等的芯片。中国目前正在推进EUV光刻机的研发和生产,预计未来将能够生产更小的10纳米以下的芯片。截至2021年,中国已经开发出一台EUV光刻机,并在产线上进行试验和生产。然而,目前中国仍然依赖进口EUV光刻机,尚未实现大规模商业化生产。